化學(xué)機(jī)械平面化（CMP）是用于制造半導(dǎo)體工業(yè)晶圓的拋光工藝。由于運(yùn)輸/處理問(wèn)題，干燥以及漿料分配系統(tǒng)內(nèi)的相互作用，工具中的漿料被輸送到晶圓表面可能含有大顆粒/附聚物（>1μ）。這些大顆?？梢栽诎雽?dǎo)體晶片表面上形成缺陷（劃痕）。
降低由顆粒引起缺陷的解決方案之一是使用漿液過(guò)濾。目前有兩種漿料過(guò)濾的優(yōu)選方法：1）循環(huán)或再循環(huán)過(guò)濾和2）使用（POU）過(guò)濾。循環(huán)或再循環(huán)過(guò)濾試圖從漿液中除去大顆粒，因?yàn)闈{液通過(guò)將漿液輸送到工具的分配回路循環(huán)。對(duì)于這些應(yīng)用，通常使用0.5至5微米的過(guò)濾器，建議1至3 GPM的流量。
POU過(guò)濾在漿料分配到拋光墊上的點(diǎn)處或附近捕獲大的顆粒。POU應(yīng)用的流速不應(yīng)超過(guò)0.5至2.5 GPM。由于能夠在低流速下使用亞微米過(guò)濾器，因此POU過(guò)濾優(yōu)于環(huán)路過(guò)濾，這往往會(huì)減少過(guò)早堵塞過(guò)濾器的發(fā)生并允許<1.0μm顆粒的潛在過(guò)濾。POU漿料過(guò)濾已被證明有利于減少CMP工藝中的晶圓缺陷并提高產(chǎn)量。
傳統(tǒng)上，POU過(guò)濾和循環(huán)過(guò)濾都使用了非折疊濾芯。這些圓柱形深層濾芯可能會(huì)在效率，污物容量（使用壽命），流速和壓降方面出現(xiàn)局限性。相反，單層褶皺過(guò)濾器提供更好的性能，但是濾芯使用壽命比較短。
XZC建議將XL 系列過(guò)濾器作為CMP漿液過(guò)濾的較好選擇。這些混合式打褶/深層過(guò)濾器結(jié)合了深層過(guò)濾器的較好特性（能夠去除由于分級(jí)孔隙結(jié)構(gòu)，穩(wěn)定的介質(zhì)配置而產(chǎn)生的一系列粒徑）以及褶式過(guò)濾器的優(yōu)點(diǎn)（高表面積可改善流速，降低壓降和更長(zhǎng)的在線時(shí)間）
CMP漿液過(guò)濾的目的：
| 漿料應(yīng)含有可控顆粒尺寸范圍內(nèi)的磨料組分，以獲得用于光刻的非常平滑和正常的晶圓表面 去除微粒和附聚物，同時(shí)留下磨料組分 客戶目標(biāo)：減少劃痕，提高產(chǎn)量 |  |
